产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > > 磁控溅射镀膜设备 > Star.100Tetra Co实验室用磁控溅射设备

实验室用磁控溅射设备

更新时间:2021-04-28

访问量:228

厂商性质:生产厂家

生产地址:

简要描述:
实验室用磁控溅射设备是一款特殊设计,结构紧凑的溅射台,FHR.Star.100-TetraCo用于晶片类基底或基底承载器的工艺处理。
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域环保,能源,电子
一、设备介绍
 
  实验室用磁控溅射设备 是一款特殊设计 , 结构紧凑的溅射台,FHR.Star.100-TetraCo用于晶片类基底或基底承载器的工艺处理。该设备包含一个上料盒式进样室, 一个处理腔室和一个由3个溅射源和1个预清洗刻蚀器的工艺腔室,全部遵照共焦几何设计。镀膜工艺通过不加热的背板盛放基底承载器并旋转实现。溅射源安装在直径100mm的阴极和挡板之间,挡板为气动控制,可实现依次溅射或共溅射镀膜。另外,每个溅射源可轴向和水平方向调节,因此,可实现不同高度基底多种靶基距范围的镀膜工艺。机械手通过上料盒升降装置的上下移动传输基底承载器。基底的依次镀膜工艺通过自动编程自动得以实现。
 
  二、适用工艺
 
  1.反应和无反应磁控溅射(直流方式)
 
  2.预处理(例如,等离子刻蚀)
 
  3.对旋转基底承载器的共溅射
 
  三、客户优势
 
  1.结构紧凑,占用空间少
 
  2.洁净室内使用设备,可通过洁净室隔离墙实现
 
  3.设备维护高效便捷
 
  4.投资和运行成本具吸引力
 
  四、特殊性能
 
  1.旋转式基底承载器
 
  2.靶基距可调
 
  3.全自动工艺控制
 
  4.CE 认证
 
  5.德国制造
 
  五、可选方案
 
  1.中频溅射
 
  2.射频溅射
 
  3.基底承载器加热 (T < 500 °C)
 
  4.标准晶片上料盒
 
  5.定制上料盒式进样室
 
  六、典型应用
 
  1.MEMS和传感器领域多层膜
 
  2.微电和光电领域功能膜
 
  实验室用磁控溅射设备
 

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7

联系我们

contact us

咨询电话

扫一扫,关注我们

返回顶部