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实验室用快速退火炉

更新时间:2021-02-01

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厂商性质:生产厂家

生产地址:

简要描述:
实验室用快速退火炉 又名RTP设备,此设备为型号AS-One系列,分为可以处理4“基片的AS-ONE100以及处理6“基片的AS-ONE150,更小的基片可使用基片托。主要用于大学,研究实验室以及年产量高达10000晶圆的小规模生产。
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,环保,化工,能源,电子
  实验室用快速退火炉
 
 
  1、设备尺寸详情:
 
  AS-0NE100:530*800*1425mm
 
  2、型号介绍:
 
  不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉),具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
 
  3、性能和特征:
 
  可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆,可适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等等。
 
  设备应用具有:硒化、硫化、接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化) ,RTN (快速热氮化) ,硅平滑,扩散,致密化和结晶化,石墨烯CVD,碳纳米管等。
 
  不锈钢水冷腔壁技术,高工艺复现性,超洁净及无污染环境
 
  高冷却速率,低记忆效应
 
  具有真空能力,可选配分子泵
 
  温度控制:高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
 
  边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品
 
  基片托的温度控制
 
  实验室用快速退火炉
 
  
  4、快速退火炉的具体参数
 
  温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、升温速率:可达200°C/s(AS-One100),可达150°C/s(AS-One150)
 
  特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
 
  可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
 
  标配一条吹扫气路
 
  具有真空能力,配备干泵,可选配分子泵。

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