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快速退火炉 快速热处理设备

更新时间:2020-12-24

访问量:132

厂商性质:生产厂家

生产地址:

简要描述:
快速退火炉 快速热处理设备 (不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉)具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,环保,化工,能源,电子

 快速退火炉(快速热处理设备)设备详情:

1、性能和特征

  • 可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆
  • 可适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等等。
  • 设备应用具有:硒化、硫化、接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化) ,RTN (快速热氮化) ,硅平滑,扩散,致密化和结晶化,石墨烯CVD,碳纳米管等。
  • 不锈钢水冷腔壁技术,高工艺复现性,超洁净及无污染环境
  • 高冷却速率,低记忆效应
  • 具有真空能力,可选配分子泵
  • 温度控制:高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
  • 边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品
  • 基片托的温度控制

2、快速退火炉(快速热处理设备)具体参数

  • 温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、
  • 升温速率:可达200°C/s(AS-One100),可达150°C/s(AS-One150)
  • 特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
  • 可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
  • 标配一条吹扫气路
  • 具有真空能力,配备干泵,可选配分子泵 

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