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实验室用低压化学气相沉积设备

更新时间:2021-04-28

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厂商性质:生产厂家

生产地址:

简要描述:
TYTAN 实验室用低压化学气相沉积设备是专为氧化, 扩散和低压化学气相沉积应用而设计的。与其它相同产能的常规炉系统相比,它具有结构紧凑,占地空间小和省电等优势。
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域环保,化工,能源,电子,汽车

LPCVD/常压CVD 实验室用低压化学气相沉积设备详情:

一、关键设计和性能特性包括:

  1. 创新性热能设计
  2. 占地空间小
  3. 优良的工艺均匀性
  4. 设备开机率优于 95%
  5. 庞大的客户网络
  6. 专家服务
  7. 节省(50%)电能和气体消耗
  8. 便于保养和服务

二、常压工艺:

  1. 氧化工艺(湿法,干法)
  2. 固态源扩散(BN,P2O5)
  3. 液态源扩散(POCl3,BBr3)
  4. 退火
  5. 纳米材料
  6. 烧结+合金


三、低压化学气相沉积和工艺:

  1. 掺杂多晶硅和非晶硅 LPCVD
  2. 多晶硅 LPCVD(使用硅烷或乙硅烷)
  3. 低温氧化硅,掺杂性低温氧化硅,硼磷硅玻璃,硼硅玻璃和磷硅玻璃LPCVD
  4. 高温氧化硅LPCVD
  5. TEOS氧化硅LPCVD
  6. 氮化硅LPCVD(低应力型,标准型)
  7. 硅锗(Si-Ge)LPCVD
  8. 掺氧半绝缘多晶硅,碳化硅
  9. 外延硅
  10. 纳米材料LPCVD

四、关键设计和性能特点:

  1. 创新性热能设计
  2. 占地空间小
  3. 优良的工艺均匀性
  4. 设备开机率优于95%
  5. 庞大的客户网络
  6. 专家服务
  7. 节省(50%)电能和气体消耗
  8. 便于保养和服务


TYTAN炉系统对照表:

炉系统型号 1600 1800 3600 3800 4600
衬底尺寸 6’’ 8’’ 6’’ 8’’ 6’’
炉管数量 1 TUBE 1 TUBE 3 TUBES 3 TUBES 4 TUBES
单管产能 100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
100 ATM
50 LPCVD
恒温区长度 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm 18’’/457 mm
设备尺寸
(长度, 高度, 宽度)
L 63’’/1600 mm L 63’’/1600 mm L 126’’/3200 mm L 134’’/3404 mm L 127’’/3226 mm
H 54’’/1372mm H 54’’/1372mm H 69’’/1753mm H 82’’/2083mm H 82’’/2083mm
D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm D 30’’/762 mm
*大消耗电功率 18 KVA 28 KVA 40 KVA 45 KVA 50 KVA

 实验室用低压化学气相沉积设备

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